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PECVD等离子增强化学气相沉积，等离子体是物质分子热运动加剧，相互间的碰撞会导致气体分子产生电离，物质就会变成自由运动并由相互作用的正离子、电子和中性粒子组成的混合物。据测算，光在硅表面的反射损失率高达35%左右，台湾氧化铪真空镀膜，减反膜可以极高地提高电池片对太阳光的利用率，有助于提高光生电流密度，进而提高转换效率，同时薄膜中的氢对于电池片表面的钝化降低了发射结的表面复合速率，减小了暗电流，提升了开路电压，提高了光电转换效率；在烧穿工艺中的高温瞬时退火断裂了一些Si-H、N-H键，游离出来的H进一步加强了对电池的钝化。

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磁控溅射设备的主要用途：

1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。

（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

（3） 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积（CVD）或金属有机

（4）化学气相沉积（CVD）生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。

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磁控溅射镀膜（MSP）是一种先进的表面装饰镀膜技术，膜材做成阴极圆柱磁控旋转靶置于镀膜室中央，通入工作气体，在电压（直流或脉冲）作用下产生真空辉光放电，360℃方向辐射镀膜。靶材利用率高，工作温度低，可用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）工件镀制铝、铜、铬、镍、钛、金、银以及不锈钢等薄膜，通入反应气体可镀多种化合物膜，镀膜层具有均匀、致密、附着力强、绕射性好等特点，广泛用于家用电器、钟表、工艺美术、玩具、车灯反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜。

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