低压气相沉积真空镀膜加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

磁控溅射生产出来的金属膜，优点很多，共溅射真空镀膜工艺，比如具有高清晰、高隔热、低反光的特点。尤其是它是通过反射热量而非吸收热量来达到隔热的目的，所以车辆如果长时间暴晒在太阳底下，贴磁控溅射膜车隔热效果要优于纳米陶瓷膜。当然它缺点也明显，很贵就是它的缺点。还有就是金属膜容易氧化，也会影响到手机等信号的接收，这就是有时候贴了金属膜车内会丢信号、ETC识别不出的原因（温馨建议，不要全车玻璃都贴金属膜，像ETC需要留口子）。

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完成了该设备之前的调试和各个部分的检查之后，在制作薄膜过程中必须理解该工艺的基本步骤和程序。装好基片后自动进舟，进舟到位后对工艺管抽真空，恒温一段时间后进行工艺淀积，这一步是关键工艺，在此过程应保持温度、压力、流量、高频功率等参数的稳定性，淀积工艺完成后再清洗、充氮，保证残余气体未留在反应管内，后退舟、卸片、装片，进行下一循环，整个工艺流程约半小时。由于该PECVD是一种特殊、性很强的设备。它集机械、电子、高频、计算机、真空、气体、传动及温度控制为一体，如使用得当，经常维护，就不容易出故障。如不按使用说明书严格操作，可能会出错，严重时可能会损坏设备，甚至出现人身事故。

欢迎来电咨询半导体研究所哟~共溅射真空镀膜

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真空电镀加工时产生掉膜的原因比较多也比较复杂。处理起来比较棘手，可以考虑从以下几个方面排除：

1、表面清洁度：产品表面洁净度不够，可以考虑离子源清洗时气放大、时间长点。

2、真空镀膜清洗过程中的问题：镀前清洗不到位，或更换了清洗液。

3、工艺的问题：工艺参数是否有变动，在镀膜时间和电流上做适当调整。

4、靶材的问题：钛靶是否中i毒，检查和更换。

5、真空腔是否漏气：进行一次捡漏。

6、产品表面氧化：氧化的原因比较多，可以自行判断处理。

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