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真空镀膜实验室MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,MEMS真空镀膜实验室,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。


哪些溅射靶材可用于热反射镀膜

目前汽车玻璃镀膜常用的溅射靶材有Cr、Fe、Sn、Si、Zn、Mn、Ti、Al、Ag、Ni、Ni/Cr、Cu、Ni/Cu等不同规格的溅射靶材, 如下:

铬溅射靶材

铬溅射靶材广泛应用于五金工具镀膜、装饰镀膜、平板显示器镀膜。五金涂层用于各种机械和冶金应用,例如机器人工具、车削工具、模具(铸造、冲压)。涂膜厚度一般为2~10um,海南真空镀膜实验室,要求硬度高、磨损小、耐冲击、耐热冲击、附着力强。现在,铬溅射靶材普遍应用于玻璃镀膜行业。重要的应用是汽车后视镜的制备。随着汽车后视镜的要求越来越高,很多企业已经从原来的镀铝工艺转向真空溅射镀铬工艺。


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同时,靶材溅射表面的高温会迅速导致松散颗粒落下,污染玻璃表面,影响镀膜质量。相对密度越高,成膜速度越快,金属真空镀膜实验室,溅射工艺越稳定。根据靶材制备工艺的不同,铸造靶材的相对密度应在98%以上,粉末冶金靶材应在97%以上才能满足生产使用。因此,应严格控制目标密度,以减少落渣的发生。喷涂靶材的密度低,制备成本也低。当相对密度能保证90%以上时,一般不影响使用。

靶材间隙对大面积镀膜的影响

除了致密化,如果靶材在生产过程中出现异常,大颗粒会因受热而脱落或缩孔。结果会形成更多的气孔(内部缺陷),靶材中更大或更密的气孔会因电荷集中而放电,影响使用。

靶材密度低,加工、运输或安装时气孔易。相对密度高、孔隙少的靶材具有良好的导热性。溅射靶材表面的热量很容易快速传递到靶材或衬板内表面的冷却水中,保证了成膜过程的稳定性。


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靶材的形状、纯度、密度、孔隙率、晶粒尺寸和质量极大地影响膜层质量和溅射速率。的靶材可以保证良好的薄膜质量,延长Low-E产品的生命周期。更重要的是,它可以降低生产成本,提高生产效率。今天,我们分享靶材纯度和材料均匀性对大面积镀膜的影响。

溅射靶材纯度对大面积镀膜的影响

溅射靶材的纯度对薄膜的性能有很大的影响。当洁净的表面玻璃进入高真空镀膜室时。如果在电场和磁场的作用下靶材纯度不够。那样的话,靶材中的杂质粒子会在溅射过程中附着在玻璃表面,导致某些位置的膜层不牢固,出现剥离现象。因此,靶材的纯度越高,薄膜的性能就越好。


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