真空镀膜厂家MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

传动速度

玻璃基片在阴极下的移动是通过传动来进行的。低传动速度使玻璃在阴极范围内经过的时间更长，这样就可以沉积出更厚的膜层。不过，为了保证膜层的均匀性，传动速度必须保持恒定。

镀膜区内一般的传动速度 范围为每分钟0 ~600英寸(大约为0~15.24米)之间。根据镀膜材料、功率、阴极的数量以及膜层的种类的不同，通常的运行范围是每分钟90 ~ 400 (大约为2.286~ 10.16米)英寸之间。

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(3) 启动机械泵，抽一分钟左右之后，打开复合真空计，当示数约为10E-1量级时，启动分子泵，频率为400HZ (默认)，同时预热离子清洗打开直流或射流电源及流量显示仪。

(4) (选择操作)打开加热控温电源。启动急停控制，报警至于通位置，功能选则为烘烤。

(5)当真空度达到5X 10-4Pa时，关闭复合真空计，开启电离真空计，通气(流量20L/min)，打开气路阀，ITO镀膜真空镀膜厂家，将流量计I拨至阀控档，稳定后打开离子源，依次调节加速至200V~250V，中和到12A左右，阳极80V;阴极10V，阳极300V。从监控程序中调出工艺设置文件，启动开始清洗。

(6)清洗完成后，按离子源参数调节相反的顺序将各参数归零，关闭离子源，将流量计Ⅱ置于关闭档。

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真空系统的部分，可能出现的故障有：

（1）阀门问题，各种阀门打不开：出现各种阀门打不开的情况时，首先检查阀门各属器室的阀门有无关到位、气压是不是正常，如果上述的条件都正常但是仍旧不能工作的情况下，则应对照系统电气原理图检查各执行器件供电回路是否正常，生物芯片真空镀膜厂家，逐一进行排除。

工件烘烤系统：

（1）温度失控，恒温不稳定：可能原因有，温控仪工作失常、调功器输出不能调节、热电偶位置欠妥。这种情况下我们可以检修更换温控仪、检查调功器工作情况、调整热电偶位置。

（2）跳闸：可能原因有，自身短路、绝缘降低、电阻太小。这种情况下我们可以检修加热器件重新调整到正常工作、清洗蒸发物质检查绝缘物质是否破损提高真空度、选择较低的输出电压待温度升高再提高电压。

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