低压气相沉积真空镀膜加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，台湾真空镀膜，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

 溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，LPCVD真空镀膜，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成，基片作为阳极，真空室中通入0.1-10Pa的气或其它惰性气体，在阴极（靶）1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的离子轰击靶表面，使得靶原子溅出并沉积在基片上，形成薄膜。溅射方法很多，主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。

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 传统晶硅太阳电池的生产工艺过程分别为清洗制绒、扩散、刻蚀、PECVD、丝网印刷和烧结等步骤，其中清洗制绒工艺将严重影响硅片表面的绒面的均一性。取两片清洗制绒后硅片，在同一条件下进行PECVD镀氮化硅膜，片1的表面均一性较差，片2的表面均一性良好，其绒面大小约2.13μm。通过实验表明，通过PECVD沉积在片1表面的氮化硅薄膜产生了色差，即部分区域偏红，部分区域偏白。这是由于同一条件下，反应气体流量相同，比表面积大的区域沉积的氮化硅厚度越小，而比表面积小的区域则反之。相比之下，片2表面均一性较好且无色差，低压气相沉积真空镀膜，可见，硅片表面微观结构差异较大会造成比表面积明显差异，从而使氮化硅薄膜厚度产生显著差异，表现出不同颜色，即色差。

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低压气相沉积真空镀膜加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，电极真空镀膜，以及行业应用技术开发。

 辉光球与手指接触从而使手指周围变得更为明亮这一现象从侧面证明了人体是可以导电的，那么，这也说明了上图中的一卷玻璃膜与辉光球接触的周围也变得更为光亮是因为这一卷玻璃膜是有导电性的。有人可能会问玻璃膜的材质不是PET塑料吗，怎么会有导电性？没错，这正是磁控溅射膜的奥秘所在——磁控溅射膜内含大量稀有金属。磁控溅射工艺是将镍、银、钛、金等高i级宇航合金材料采用先i进的多腔高速旋转设备，利用电场与磁场原理高速度高力量地均匀溅射于高张力的PET基材上，保证产品卓i越的隔热功能、清晰的透光率及科学、自然的金属涂层。

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