MEMS微纳加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

微纳制造技术的发展现状与发展趋势统和其他综合系统；纳米生物学等。

20世纪70年代，人们第i1次提出微i针的概念，但当时的生产工艺达不到制作微i针的精度要求。直至90年代微机电系统（MEMS）及其制造工艺得到快速发展时，微i针的加工与应用才再一次进入研究人员的视线。由于微i针给药具有快速、高i效、无痛和药i物利用率高等诸多优势，美容行业对专i用美容微i针强烈的市场需求也成为了驱动微i针研究快速发展的动力，即为一种常见的商品化聚合物美容微i针。微i针针体是空心或实心的微米级结构，电子束曝光微纳加工服务价格，类似于常用的医i用注射针头，并按照一定的排列方式分布于基板上。可用于制造微i针的材料多种多样，其中聚合物微i针以其优异的生物相容性、可降解性能、稳定的力学和化学性能及相对于硅和金属等传统微i针材料更加低廉的成本而受到人们的亲睐。就给药结构而言，微i针主要分为实心和空心两大类，展示了几种不同结构形式的医i用聚合物微i针。

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在我国，微纳制造技术同样是重点发展方向之一。

微纳加工技术是先进制造的重要组成部分，是衡量国家高i级制造业水平的标志之一，具有多学科交叉性和制造要素极i端性的特点，在推动科技进步、促进产业发展、拉动科技进步、保障国i防安全等方面都发挥着关键作用。微纳加工技术的基本手段包括微纳加工方法与材料科学方法两种。比较显然，微纳加工技术与微电子工艺技术有密切关系。微纳加工大致可以分为“自上而下”和“自下而上”两类。“自上而下”是从宏观对象出发，以光刻工艺为基础，对材料或原料进行加工，较小结果尺寸和精度通常由光刻或刻蚀环节的分辨力决定。“自下而上”技术则是从微观世界出发，通过控制原子、分子和其他纳米对象的相互作用力将各种单元构建在一起，形成微纳结构与器件。

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按照微纳制品的空间结构形式可以分为一维、二维和三维微纳制造。

通过光刻技术制作出的微纳结构需进一步通过刻蚀或者镀膜，才可获得所需的结构或元件。刻蚀技术，是按照掩模图形对衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的技术，可分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀较普遍、也是设备成本较低的刻蚀方法。大部份的湿刻蚀液均是各向同性的，换言之，对刻蚀接触点之任何方向腐蚀速度并无明显差异。然而自1970年代起，报道了许多有关碱性或有机溶液腐蚀单晶硅的文章，其特点是不同的硅晶面腐蚀速率相差极大，尤其是方向，足足比或是方向的腐蚀速率小一到两个数量级！因此，刻蚀微纳加工服务价格，腐蚀速率较慢的晶面，往往便是腐蚀后留下的特定面。干法刻蚀利用等离子体来进行半导体薄膜材料的刻蚀加工。其中等离子体必须在真空度约10至0.001Torr的环境下，才有可能被激发出来；而干刻蚀采用的气体，或轰击质量颇巨，或化学活性极高，均能达成刻蚀的目的。其较重要的优点是能兼顾边缘侧向侵蚀现象极微与高刻蚀率两种优点。干法刻蚀能够满足亚微米/纳米线宽制程技术的要求，且在微纳加工技术中被大量使用。

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