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半导体微纳 氮化硅真空镀膜服务 山西氮化硅真空镀膜
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发布时间: 2023-04-17 06:49
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氮化硅真空镀膜MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。


距离与速度及附着力

为了得到的沉积速率并提高膜层的附着力,在保证不会破坏辉光放电自身的前提下,基片应当尽可能放置在离阴极近的地方。溅射粒子和气体分子(及离子)的平均自由程也会在其中发挥作用。当增加基片与阴极之间的距离,碰撞的几率也会增加,这样溅射粒子到达基片时所具有的能力就会减少。所以,氮化硅真空镀膜工艺,为了得到的沉积速率和的附着力,基片必须尽可能地放置在靠近阴极的位置上。




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溅射靶材均匀性对大面积镀膜的影响

对于合金溅射靶材来说,往往存在材料分布不均的情况。如硅铝靶材中铝团聚,锌铝靶材中铝偏析(铝的原子质量比锌的原子质量65少27。铝在浇注后冷却过程中会上浮,导致铝含量一侧高另一侧低)。由于熔点低,硅铝靶中的团聚铝在溅射成膜时很容易掉渣,而在喷涂过程中加入的铝量是一定的。一部分铝团聚表明其他位置的铝含量较少,影响了硅靶的热导率和电导率。所以溅射速率不一致,成膜均匀性差,靶材,靶材放电加剧。它还降低了成膜质量。靶材成分的偏析会影响溅射速率(薄膜均匀性)和薄膜成分。因此,除了控制靶材的纯度外,合金靶材的分布也很关键。


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由工作气压与沉积率的关系表可以看出:在其他参数不变的条件下,随着工气压的增大,沉积速增大后减小。在某一个佳工作气压下,山西氮化硅真空镀膜,有一个对应的大沉积速率。

3.5.1试验结果分析

气体分子平均自由程与压强有如下关系

其中为气体分子平均自由程,k为玻耳兹曼常数,T为气体温度,氮化硅真空镀膜多少钱,d为气体分子直径,p为气体压强。由此可知,在保持气体分子直径和气体温度不变的条件下,如果工作压强增大,则气体分子平均自由程将减小,溅射原子与气体分子相互碰撞次数将增加,二次电子发射将增强。




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