真空镀膜加工平台MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，MEMS真空镀膜加工平台，以及行业应用技术开发。

上一次小编带大家快速了解了电子束蒸发镀膜机，今天我们来聊一聊磁控溅射设备的主要用途有哪些？什么？你不知道什么是磁控溅射？

上一次小编提到了一个词是PVD，即物理气相沉积，电子束是PVD的一种，磁控溅射也一样。电子束一般用于对镀膜材料有高纯度高标准要求的领域，而磁控溅射一般的应用更日常一些，比如爷爷奶奶的半导体、常见的绝缘体材料、一些手机壳，这下不再觉得磁控溅射遥远了吧。而且磁控溅射的优点也很明显、很接地气：设备简单、易于操控、镀膜面积大等等。早在上世纪七八十年代，磁控溅射设备就完成低速高温低损伤。

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真空镀膜机设计应该注意什么，能减少捡漏工作

 为了保证真空镀膜机具有良好的密封性能，必须要在切断可能存在漏孔的原因，因此仅仅在设备安装完毕后去寻求漏孔的位置，堵塞漏孔的通道是远远不够的。必须要在设置真空镀膜机设计就要进行真空检漏工作。下面真空小编为大家在设计环节就开始需要进行捡漏的一些真空镀膜注意事项：

1、根据设备的工艺要求，确定真空镀膜机的总的允许漏率，并依据这一总漏率确定各组成部件的允许漏率。

2、根据设备的允许漏率等指标，江苏真空镀膜加工平台，在设计阶段就初步确定将要采用的检漏方法，并将其作为指导调试 验收的基本原则之一。

3、根据设备或部件的允许漏率指标，决定设备的密封、连接方式和总体加工精度，以及何种动密封形式能够满足要求。如，法兰采用金属密封或橡胶密封。

4、容器结构强度设计时，考虑如果采用加压法检漏被检件所应具有的耐压能力和结构强度。

5、选择零部件结构材料时，考虑是否使用了可能被工作介质和示漏气体腐蚀而导致损坏的材料。

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提起膜，大多数人的反应都是给手机屏幕贴的膜吧，其实，生活中的很多常用物品的表面都是有膜的，能够起到很好的保护作用，比如鼠标的外壳在制作完成之后，是需要进行镀膜的。这种膜不是像手机膜那种常规意义上的膜，而是一种建立在基板层面上的膜。所以这种膜是需要的仪器才能够做到的。

这种设备叫作磁控溅射镀膜机，之所以称之为磁控溅射镀膜机是因为主要应用的是磁控溅射技术。这是一种通过涉及气态等离子体的沉淀技术，在镀膜时，将需要镀膜材料准备好，将等离子气体与需要镀膜的材料处于同一空间之中，利用高能离子将材料表面进行侵蚀，使得原子能够沉积在基板的表面上并形成薄膜。这样就完成了对于材料表面的“贴膜过程”。

这种磁控溅射镀膜技术可以说好处颇多。磁控溅射镀膜技术可以满足基本上所有的材料，同时还不限制材料的熔化温度，磁控溅射真空镀膜加工平台，无论是金属、塑料还是合金等等，都可以实现贴膜。而且在操作时是可以根据基材和涂层进行调整的，并且可以安置于腔室内的任何位置。即使是以沉积合金或者是化合物的薄膜，就可以基本保持原始材料的相似效果。

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