氮化硅真空镀膜MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，氮化硅真空镀膜价格，以及行业应用技术开发。

CVD镀膜设备种类繁多，当前PECVD为主流技术，未来市占率有望进一步提升。CVD是指利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程，氮化硅真空镀膜技术，是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程控制。CVD镀膜重复性和台阶覆盖性较好，可用于SiO2、Si3N4、PSG、BPSG、TEOS等介质薄膜，以及半导体、金属（W）、各类金属有机化合物薄膜沉积。CVD种类繁多，根据腔室压力、外部能量等不同，可大致分为 APCVD、LPCVD、SACVD、 PECVD、MOCVD等类别。CVD设备反应源容易获得、镀膜成分多样、设备相对简单、特别适用于在形状复杂的零件表面和内孔镀膜。

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那么电子束蒸发镀膜机，主要应用在哪些领域呢？电子束蒸发镀膜机，因其高沉积速率和高材料利用效率而被广发应用于例如航空航天领域、汽车行业、激光科学，我们常见的太阳能电池板、建筑玻璃，主要是赋予这些所需的导电、反射和透射的特性。另外，还有一些，行业或产品，对材料的耐高温、耐磨性有很高的要求和标准，这些都需要电子束蒸发镀膜。

另外，比较被常被问到的一个问题就是，电子束蒸发镀膜和热蒸发相比，有哪些优势呢？

二者主要的区别，也是本质的区别是工作原理不同。上面我们提到了，电子束热蒸发镀膜的工作原理是使用电子束轰击材料源，产生高能热量，使材料蒸发，而热蒸发，顾名思义是通过加热来完成这一工作流程的。

首先电子束蒸发源尺寸多样，还可以分为单腔或者多腔。因为其加热温度高，可允许高温材料和难熔金属的非常高的沉积速率和蒸发。其次，电子束蒸发镀膜可以控制污染，甚至可以说，由于能够严格限制原材料占据区域，从而可以消除相邻组件间的不必要污染。而且电子束蒸发相比热蒸发，可以沉积更薄、更高纯度的薄膜。

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哪些溅射靶材可用于热反射镀膜

目前汽车玻璃镀膜常用的溅射靶材有Cr、Fe、Sn、Si、Zn、Mn、Ti、Al、Ag、Ni、Ni/Cr、Cu、Ni/Cu等不同规格的溅射靶材， 如下：

铬溅射靶材

铬溅射靶材广泛应用于五金工具镀膜、装饰镀膜、平板显示器镀膜。五金涂层用于各种机械和冶金应用，例如机器人工具、车削工具、模具（铸造、冲压）。涂膜厚度一般为2~10um，氮化硅真空镀膜价钱，要求硬度高、磨损小、耐冲击、耐热冲击、附着力强。现在，铬溅射靶材普遍应用于玻璃镀膜行业。重要的应用是汽车后视镜的制备。随着汽车后视镜的要求越来越高，很多企业已经从原来的镀铝工艺转向真空溅射镀铬工艺。

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